IPRI - www.ipri.kiev.ua -  IPRI - www.ipri.kiev.ua -
Раздел [RUS]
Регистрация, хранение и обраб. данных. — 2006. — Т. 8, № 1.
[UKR]
Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2006. — Т. 8, № 1.
[ENG]
Data Rec., Storage & Processing. — 2006. — Vol. 8, N 1.
Страницы 3-8
PDF,DOC, full text
Заглавие [RUS]
Формирование информационного рельефа в некоторых неметаллических материалах
[UKR]
Формування інформаційного рельєфу в деяких неметалічних матеріалах
[ENG]
Formation of Information Relief in Certain Nonmetal Materials
Авторы [RUS]
И. А. Косско, А. А. Крючин, В. Г. Кравец, А. А. Мохнюк, А. С. Оберемок
[UKR]
Косско І.О., Крючин А.А., Кравець В.Г., Мохнюк А.А., Оберемок О.С.
[ENG]
Kossko I.A., Kryuchin A.A., Kravets V.G., Mohnyuk A.A., Oberemok A.S.
Kiev, Ukraine
Аннотация [RUS]
Исследована возможность формирования информационного рельефа в некоторых неметаллических материалах, полученных методом реак-ционного спекания и горячего прессования (SiC, SiC+В4С и Si3N4, Si3N4+В4С, AlN), а также в монокристаллическом кремнии. Для полу-чения микрорельефа использован метод плазмохимического травления.
[UKR]
Досліджено можливість формування інформаційного рельєфу в деяких неметалічних матері-алах, отриманих методом реакційного спікання та гарячого пресування (SiC, SiC+В4С і Si3N4, Si3N4+В4С, AlN), а також у монокристалічному кремнії. Для отримання мікрорельєфу використано метод плазмохімічного травлення. Табл.: 1. Іл.: 2. Бібліогр.: 7 найм.
[ENG]
An opportunity of forming the information relief in certain nonmetal materials obtained by a tech-nique of reaction baking and hot pressing (SiC, SiC+В4С and Si3N4, Si3N4+В4С, AlN) as well as in monocrystalline silicon is investigated. For obtaining a microrelief the plasmochemical etching technique is used. Tabl.: 1. Fig.: 2. Refs: 7 titles
Ключевые слова [RUS]
керамика, плазмохимическое травление, информа-ционный рельеф.
[UKR]
кераміка, плазмохімічне травлення, інформаційний рельєф.
[ENG]
ceramics, plasmochemical etching, information relief.
Ссылки 1. Петров В.В., Крючин А.А., Шанойло С.М. та ін. Металеві носії для довготермінового зберігання інформації. — К.: Наук. думка, 2005. — 132 с.
2. Bifano T.G., Fawcett H.E., Bierden P.A. Precision Manufacture of Optical Disc Master Stampers // Precision Engineers. — 1997, Jan. — Vol. 20, N 1. — Р. 54–62.
3. Bifano T.G., Fawcett H.E., T. Drueding T. Neutral Ion Figuring of Chemically Vapor Deposited Silicon Carbide // Opt.Eng. — 1994. — 33. — Р. 967–974.
4. Miyamoto I., Shhuhara A. Ion Beam Machining of Tungsten Carbide Chips — Fabrication of Fine Patterns // Ann CIRP. — 1991. — Р. 40.
5. Miyamoto I., Ezewa T., Itabashi K. Ion Beam Fabrication of Diamond Probes for a Scanning Tunneling Microscope. — 1991. — 2. — P. 52–56.
6. Egert C.M. Roughness Evolution of Optical Materials Induced by Ion Beam Milling // Proc. SPIE. — 1992. — Р. 1752.
7. Drueding T.W., Wilson S., Fawcett S.C., Bifano T.G. Ion Beam Figuring of Small Optical Components // Opt. Eng. — 1995. — 34. — Р. 3565–3571.
Файлы StatjaKeramika.doc