IPRI - www.ipri.kiev.ua -  IPRI - www.ipri.kiev.ua -
Раздел [RUS]
Регистрация, хранение и обраб. данных. — 2006. — Т. 8, № 2.
[UKR]
Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2006. — Т. 8, № 2.
[ENG]
Data Rec., Storage & Processing. — 2006. — Vol. 8, N 2.
Страницы 6-14
PDF,DOC, full text
Заглавие [RUS]
Формирование рельефных микроструктур на кремниевых подложках
[UKR]
Формування рельєфних мікроструктур на кремнієвих підкладках
[ENG]
Formation of Relief Microstructures on Silicon Substrates
Авторы [RUS]
И. А. Косско, А. А. Крючин, А. В. Панкратова, Ф. И. Коржинский, Л. Д. Середа, И. В. Середа
[UKR]
Косско І.О., Крючин А.А., Панкратова А.В., Коржинський Ф.І., Середа Л.Д., Середа І.В.
[ENG]
Kossko I.A., Kryuchin A.A., Pankratovf A.V., Sereda L.D., Sereda I.V.
Kiev, Ukraine
Аннотация [RUS]
Рассмотрена возможность получения рельефных микроструктур на кремниевых подложках. Показано, что полученные рельефные микро-структуры могут быть использованы для записи, тиражирования и хранения информации, как в цифровом, так и в аналоговом виде. Для получения микроструктур использован способ электронно-лучевой литографии.
[UKR]
Розглянуто можливість одержання рельєфних мікроструктур на кремнієвих підкладках. Показано, що отримані рельєфні мікроструктури можуть бути використані для запису, тиражування й зберігання інформації як у цифровому, так і в аналоговому виді. Для одержання мікроструктур використано спосіб електронно-променевої літографії. Іл.: 4. Бібліогр.: 12 найм.
[ENG]
An opportunity of obtaining relief microstructures on silicon substrates is considered. It is shown that obtained relief microstructures can be used for recording, replication and information storage both in digital and analog form. For obtaining microstructures an electron-beam lithography technique is used. Fig.: 4. Refs: 12 titles.
Ключевые слова [RUS]
рельефные микроструктуры, электронно-лучевая литография, химическое травление.
[UKR]
рельєфні мікроструктури, електронно-променева літографія, хімічне травлення.
[ENG]
relief microstructures, electron-beam lithography, chemical etching.
Ссылки 1. Косско И.А., Крючин А.А., Кравец В.Г., Мохнюк А.А., Оберемок А.С. Формирование инфо-рмационного рельефа в некоторых неметаллических материалах // Реєстрація, зберігання і оброб. даних — 2006. — Т. 8, № 1. — С. 3–8.
2. Bifano T.G., Fawcett H.E., Bierden P.A. Precision Manufacture of Optical Disc Master Stampers // Precision Engineers. — 1997, Jan. — Vol. 20, N 1. — P. 54–62.
3. Bifano T.G., Fawcett H.E., T.Drueding T. Neutral Ion Figuring of Chemically Vapor Deposited Silicon Carbide // Opt. Eng. —1994. — 33. — P. 967–974.
4. Egert C.M. Roughness Evolution of Optical Materials Induced by Ion beam Milling // Proc. SPIE. — 1992. — P. 1752.
5. Drueding T.W., Wilson S., Fawcett S.C., Bifano T.G. Ion Beam Figuring of Small Optical Com-ponents // Opt. Eng. — 1995. — 34. — P. 3565–3571.
6. Hou Q.R., Gao J., Li S.J. Adhesion and іts Influence on Micro-Hardness of DLC and SiC Films // Eur. Phys. J. B. — 1999. — Vol. 8, N 4. — P. 493–496.
7. Craciun Valentin, Lambers Eric, Bassim Nabil D., Baney Ronald H., Singh Rajiv K. Growth of Dense SiC Films on Si at Medium Temperatures by Pulsed Laser Deposition // J. Vac. Sci. and Technol. A. — 2001. — Vol. 19, N 5. — P. 2691–2694.
8. Stoldt C.R., Fritz M.C., Carraro C. Maboudian R Micromechanical Properties of Silicon-Carbide thin Films Deposited Using Single-Source Chemical-Vapor Deposition // Appl. Phys. Lett. —2001. — Vol. 79, N 3. — P. 347–349.
9. Zheng Zhixiang, Guisuanyuan Xuebao // J. Chin. Ceram. Soc. — 1995. — Vol. 23, N 5. — P. 550–554.
10. Knotek O. On Superstoichiometric Ti-C, Si-Cand Ta-C PVD Coatings / Abstr. Mater. Res. Soc. Fall. Meet. — Boston (Mass). — Nov, 27. — Dec. 1. — 1995. — P. 14.7.
11. Burte E., Horner A. Substrat und Verfahren zur Herstellung Einer Siliziumkarbidbeschichtung auf Einem Substrat: 197406101 Fraunhofer-Gesellschaft zur Forderung der angewandten Forschung eV. — N 19740610.6; Заявл. 12.9.97; Опубл. 18.3.99 г.
12. Оберемок А.С., Косско И.А., Крючин А.А. Артефакты высокочастотного распыления при формировании информационного рельефа в стеклах // Оптико-електронні інформаційно-енерге-тичні технології. — 2006. — № 1(11). — C. 107–114.
Файлы paper-novaja.doc