IPRI - www.ipri.kiev.ua -  IPRI - www.ipri.kiev.ua -
Раздел [RUS]
Регистрация, хранение и обраб. данных. — 2007. — Т. 9, № 1.
[UKR]
Реєстрація, зберігання і оброб. даних. — 2007. — Т. 9, № 1.
[ENG]
Data Rec., Storage & Processing. — 2007. — Vol. 9, N 1.
Страницы 3-26
PDF,DOC, full text
Заглавие [RUS]
Аналитические методы исследований тонкопленочных и наноструктурных материалов, используемых для оптической записи. Часть 1
[UKR]
Аналітичні методи дослідження тонкоплівкових і наноструктурних матеріалів, що ви-користовуються для оптичного запису. Частина 1
[ENG]
Analytical Methods of Investigating Thin-Film and Nanostructure Materials Used for Infor-mation Recording. Part 1
Авторы [RUS]
И. А. Косско, В. Д. Курочкин, В. Г. Кравец, А. А. Крючин
[UKR]
Косско І.О., Курочкін В.Д., Кравець В.Г., Крючин А.А.
[ENG]
Kossko I.A., Kurochkin V.D., Kravets V.G., Kryuchin A.A.
Kiev, Ukraine
Аннотация [RUS]
Рассмотрены аналитические методы, используемые для решения за-дач оптического тонкопленочного и наноструктурного материалове-дения. Рассмотрены примеры применения наиболее распространенных и информативных методов анализа. Для наиболее часто используемых методов приведены основные артефакты анализа и методы их устранения или учета при анализе результатов.
[UKR]
Розглянуто аналітичні методи, що використовуються для вирішення задач оптичного тонко-плівкового та наноструктурного матеріалознавства. Розглянуто приклади застосування найбільш розповсюджених й інформативних методів аналізу. Для методів, що найбільш часто використову-ються, наведено основні артефакти аналізу та методи їхнього усунення або врахування при аналізі результатів. Табл.: 7. Іл.: 3. Бібліогр.: 27 найм.
[ENG]
The analytical methods used for solving tasks of optical thin-film and nanostructure materials sci-ence are considered. Examples of application of the most widespread and informative methods of the analysis are given. For the most frequently used methods the basic artifacts of the analysis and methods of their elimination or the account at the analysis of results are presented. Tabl.: 7. Fig.: 3. Refs: 27 titles.
Ключевые слова [RUS]
материалы для оптической записи информации, аналитические методы исследования, наночастицы, артефакты анализа.
[UKR]
матеріали для оптичного запису інформації, аналітичні методи дослідження, наночастини, артефакти аналізу.
[ENG]
optical information recording materials, analytical investigation methods, nanoparticles, artifacts of analysis.
Ссылки 1. Гоулдстейн Дж., Ньюбери Д. и др. Растровая электронная микроскопия и рентгеновский микроанализ. — В 2-х кн. — М.: Мир, 1984.
2. Черепин В.Т., Васильев М.А. Методы и приборы для анализа поверхности материалов. — К.: Наук. думка, 1982. — 400 с.
3. Бриггс Д., Сих М.П. Анализ поверхности методом оже- и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. — М.: Мир, 1987. — 600 с.
4. Карлсон Т.А. Фотоэлектронная и оже-спектроскопия. — Ленинград: Машиностроение, 1981. — 432 с.
5. Зандерна А. Методы анализа поверхностей. — М.: Мир, 1979. — 584 с.
6. Спектроскопия и дифракция электронов при исследовании поверхности твердых тел / Ку-лешов В.Ф., Кухаренко Ю.А., Фридрихов С.А., Запорожченко В.И., Раховский В.И., Наумовец А.Г., Городецкий А.Е. — М.: Наука, 1985. — 288 с.
7. Вудраф Д., Делчар Т. Современные методы исследования поверхности. — М.: Мир, 1989. — 568 с.
8. Фелдман Л., Майер Д. Основы анализа поверхности и тонких пленок. — М.: Мир, 1989. — 344 с.
9. Palmberg P.W., Riach G.E., Weber R.E., MacDonald N.C. Handbook of Auger Electron Spectroscopy. A Reference Book of Standard Data for Identification and Interpretation of Auger Electron Spectroscopy Data // Physical Electronics Industries, Inc. — Minneapolis, Minnesota (USA), 1972. — 161 p.
10. Sekine T., Nagasawa Y., Kudoh M., Sakai Y., Parkes A.S., Geller J.D., Mogami A., Hirata K. Handbook of Auger Electron Spectroscopy. — Tokyo (Japan): JEOL Ltd., 1982. — 190 p.
11. Иванов В.Ш., Брытов И.А., Кораблев В.В., Козырева Н.А., Кузнецова Т.В., Цукерман Е.А., Киселева И.И. Атлас оже-спектров химических элементов и их соединений. — М.: МХТИ им. Д.И. Менделеева, 1986. — 201 с.
12. Sigmund P. Collision Theory of Displacement Damage // Rev. Roum. Phys. — 1972. — 17, N 9. — Р. 1079–1106.
13. Блохин М.А. Физика рентгеновских лучей. — М.: ГИТТЛ, 1957.
14. Блохин М.А., Швейцер И.Г. Рентгеноспектральный справочник. — М.: Наука, 1982.
15. Гоулдстейн Дж., Ньюбери Д., Эчлин П., Джой Д., Фиори Ч., Лифшин Э. Растровая элек-тронная микроскопия и рентгеновский микроанализ / Пер. с англ. — В 2-х кн. — М.: Мир, 1984.
16. Малви Т., Скотт В.Д., Рид С.Дж.Б., Кокс М.Дж.К., Лав Г. Количественный электронно-зондовый микроанализ / Пер. с англ. — М.: Мир, 1986.
17. Гоулдстейн Дж., Яковиц Х. Практическая растровая электронная микроскопия / Пер. с англ. — М.: Мир, 1978.
18. Косско И.А., Иващенко Ю.Н. Применение Оже-электронной спектроскопии в микроэлек-тронике // Актуальные проблемы физики полупроводников: Материалы 3-й Республиканской школы-конференции. — К., 1989. — С. 67.
19. Иващенко Ю.Н., Косско И.А., Дворина Л.А. Распыление поверхности пленок дисилицида молибдена. Взаимодействие ионных пучков с атомами и поверхностью твердого тела: Межвузов-ский сб. науч. тр. — Ленинград, 1987. — С. 32.
20. Гончаренко А.Б., Иващенко Ю.Н., Косско И.А. Локальная Оже-электронная спектроскопия. Сб. науч. тр. «Новые материалы микроэлектроники». — К.: Институт проблем материаловедения АН Украины, 1988. — С. 10–18.
21. Иващенко Ю.Н., Фирстов С.А. Оже-микроанализ внутренних границ раздела в керамиче-ских материалах / К., 1990. — С. 29 (Препр. / АН УССР. Ин-т проблем материаловедения им. И.Н.Францевича).
22. Протопопов О.Д. Электронно-стимулированные эффекты в Оже-спектроскопии. — М.: ЦНИИ Электроники, 1982. — С. 69.
23. Powell C.J. The National Measurement Systems and Surface Properties. — NBS US Department of Comerce, 1977. — Р. 306.
24. Петров В.В., Крючин А.А., Богданова А.В.и др. Регистрирующие среды носителей инфор-мации постоянных оптических запоминающих устройств / К., 1985. — 53 с. (Препр. / АН Украины. Ин-т проблем моделирования в энергетике).
25. Hattendorf B., Gunther D. Strategies for Method Development for an Inductively Coupled Рlasma Мass Spectrometer with Bandpass Reaction Сell. Approaches with Different Reaction Gases for the Determination of Selenium // Spectrochimica Acta. — 2003. — Vol. 58, N1. — P. 1–13.
26. Liu H.-Т., Jiang S.-J. Dynamic Reaction Cell Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry for Determination of Silicon in Steel // Spectrochimica Acta — 2003. — Vol. 58, N 1. — P. 153–157.
27. Курочкин В.Д. Особенности образования аргонсодержащих молекулярных ионов в крио-охлаждаемой плазме тлеющего разряда // Український хімічний журнал. — 2003. — Т. 69, № 9. — С. 26–34.
Файлы statja.doc